重生08：装备系男神 第455节

回去就改方案！

能给这位设计疗养地，他绝对要拿出十二万分的精神！

（环形总部不知道大家有没有概念，最终还是上个概念图吧↓）

（ai绘图还是太弱智了，区别在于研究院一期尺寸会小不少，并且会有向外的二期、三期。）

第422章 科学的哲学

等参观的一行人从电机实验室出来后，外面对于跨年夜的布置已经基本完成。

除了各处张灯结彩外，最隆重的是根之潭附近区域。

潭水内飘着十几朵塑料花灯，周边摆满了桌椅，包括离得近的几处室内露台、水吧。

数台电视机被架在各个角度，准备晚点播放跨年晚会。

今夜参加的人除了研究院150名正式员工的百余人（总有人会选择陪伴家人或其他计划）外，还有各手机厂商的外派成员一起凑个热闹，食物则是以冷餐会的方式，摆满了十几张桌子。

此时已经有不少人或在二楼小台，或在潭边听水，好不热闹。

看到如此优渥的环境，钱老也是露出欣慰的笑容。

他从不将“吃苦”认为是应该，他那一代人吃够了“苦”，就是为了以后能看着后辈“甜”。

若是奋斗了几代人，还在戈壁滩饿肚子，那才是笑话。

“老师累不累？”

“还好。”

“那我带您去看最后一个东西，然后彻底休息，咱们静待跨年！”

说着，翟达推着钱老，去往了最角落的无尘间。

无尘衣就不给老师穿了，最多轮椅擦拭一下，进去的人少一些，应该问题不大。

他自己穿了全套的无尘服，脚底一踩，正压气门缓缓打开。

“呲”...

酥爽的声音中，这间已经渐渐升级的实验室，展现在老师面前。

与一个月前卢勤俭来时已经完全不同，那时整个实验室就只有中央摆放着一些松散零部件，如果以“碳化硅气相沉积cvd”的角度来说，完成度不超过30%。

但这一个多月来，尤其是考试周前那段时间，翟达在【缓时魔方（伪）】的帮助下，一边锻炼念动力一边组装，两不耽误，进度已经突飞猛进。

他不再纠结量产时个别关键零部件的采购问题，这些完全可以等到逆向完成、技术定型后，再拿着要求去找供应商讨论。

他开始彻底用外挂解决第一步问题，就比如一个覆盖特殊镀层的气体喷淋部件，全国采购不到，其本身金属材质也不常见，他直接跨境购了一批合金锭，用cnc车出毛坯，再手搓打磨，最后放入金属溅射设备镀层。

而反应腔的外壳也采用类似手法，精度甚至超过了tel原设备的量产型。

能做就做，做不出来就优化改方案，目前设备的组装进度已经逼近80%，即将进入调试阶段。

以高精度仪器来说，调试占据的技术水平，并不比凑够一整套硬件来的容易，而且还要配合软件部分。

翟达为老师介绍了这台设备状况，尤其逆向的思路与国内外技术区别。

“cvd是碳化硅半导体重要的一环，在诸多工序中，这部分的自主化可以节省20%以上的成本，不过排第一的成本项还是‘衬底’，占据成本的40%，我的最终希望是将碳化硅半导体的成本....压缩到现在的10-15%。”

这也意味着海外的相关产业会被毁灭性打击。

有时候工业上所谓的“卷”，媒体是真用错词了，还真不是普通人理解的“压榨员工”能做到的，尤其是高端制造业，技术革新和自主化才是重点。

“大概是尚未有足够的市场动力，全球这条路上跑着的企业，都有点得过且过的意思，毕竟比起技术进步，技术封锁更容易，还一样能挣钱，就比如tel的原型机...感觉学校被坑惨了。”

实际上若时间线往后拉十几年，回到翟达熟悉的那个碳化硅广泛应用时代，日本在碳化硅领域，已经丢掉了目前领先的位置。

就和他们许多其他产业一样。

地方小只能依赖外国市场和外国资源，奈何两大市场都不好混。

阿中是有世仇，日本自己也拧巴的很。

阿美更暴力，纯纯当血包吸了。

钱老对于这些倒是没什么评价，反而沉吟片刻后道：“如果按照‘单片反应腔’的规格，是否效率有些太低了？”

翟达一愣：“呃....如果扩大腔体，比如双托盘同时沉积，那么腔体体积更大，气体系统的湍流问题会更复杂，影响均匀性。”

虽然零帧起手就是技术问题，他回答的很快。

老师却摇摇头道：“湍流虽然难以预测，但可以干预，单纯因为湍流问题放弃效率提升，不如想想如何解决最终目标。”

“比如在扩大腔体的同步，降低长径比，可以有效减少涡流区域，同时在气体入口安装蜂窝结构导流板，即可进一步破碎大涡流。”

翟达眼睛一亮。

“另外透过现象看本质，湍流对你来说的影响在于均匀性，那如果有其他措施补偿，也未尝不能忍受，我想到两个，一个是用红外列阵的方式加热，可以提升温度均匀性，继而补偿沉积均匀性，另一个是气阀高频开关，亦可避免连续气流造成的涡旋，碳化硅功率器件应该很容易做到。”

老师可是力学大师，尤其对气体力学和热力学，都是开山鼻祖的级别。

老人家没有顺着翟达的思路思考，而是直接提出了几个全新的角度。